新闻中心
首页 > 新闻中心 > 溅射靶材的分类介绍

溅射靶材的分类介绍

 发布时间:2022-01-07 点击量:28
  溅射靶材是溅射技术必要的材料、溅射是制备薄膜材料的主要技术之一。它利用离子源产生的离子加速离子在真空中的积累,形成高速离子束,轰击固体表面,并在离子与固体表面的表面之间交换能量,使固体表面的原子与固体和沉积在基座表面上并被轰击。固体是溅射薄膜的原材料,被称为溅射靶材。
 
  溅射靶材的分类:
 
  金属靶材:镍靶、Ni、钛靶、Ti、锌靶、Zn、铬靶、Cr、镁靶、Mg、铌靶、Nb、锡靶、Sn、铝靶、Al、铟靶、In、铁靶、Fe、锆铝靶、ZrAl、钛铝靶、TiAl、锆靶、Zr、铝硅靶、AlSi、硅靶、Si、铜靶Cu、钽靶T、a、锗靶、Ge、银靶、Ag、钴靶、Co、金靶、Au、钆靶、Gd、镧靶、La、钇靶、Y、铈靶、Ce、钨靶、w、不锈钢靶、镍铬靶、NiCr、铪靶、Hf、钼靶、Mo、铁镍靶、FeNi、钨靶、W等。
 
  合金靶材:铁钴靶FeCo、铝硅靶AlSi、钛硅靶TiSi、铬硅靶CrSi、锌铝靶ZnAl、钛锌靶材TiZn、钛铝靶TiAl、钛锆靶TiZr、钛硅靶TiSi、钛镍靶TiNi、镍铬靶NiCr、镍铝靶NiAl、镍钒靶NiV、镍铁靶NiFe等。
 
  陶瓷化合物靶材:ITO靶、氧化镁靶、氧化铁靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶、二氧化铪靶、二硼化钛靶、二硼化锆靶、三氧化钨靶、三氧化二铝靶五氧化二钽、五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、硒化锌靶、氮化铝靶、氮化硅靶、氮化硼靶、氮化钛靶、碳化硅靶、铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶、溅射靶材等。
上一条:没有了
下一条:铂金坩埚的制作材料有哪些要求呢?
技术支持:化工仪器网   sitemap.xml   管理登陆
©2022 版权所有:8853 S.p.A.(www.8853spa.com)   备案号: